电子束光刻

电子束光刻技术中SiN膜是什么膜用中文怎么说2，无掩膜光刻什么是无掩膜光刻3，电子束光刻什么是电子束光刻4，电子束光刻胶HSQ能用X射线辐照吗5，哪里能做电子束光刻6，电子束光刻技术原理方法优缺点急求查阅了资料还是觉得1，电子束光刻技术中SiN膜是什么膜用中文怎么说保护不明白啊==！2，无掩膜光刻什么是无掩膜光刻无掩膜光刻是一类不采用光刻掩膜版的光刻技术，即采用电子束直接在硅片上制作出需要的图形。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据，除此之外，无掩膜光刻机还可以读取Bitmap,PNG,DXF,GDSⅡ...

对于补充问题：首先来说cmos工艺中出现这个光刻栅长也是对应于cmos制作中在光刻步骤中由于无论是用电子束光刻，还是深紫外光刻，都会发生衍射的问题演化出来的,光刻栅长，无论是用电子束光刻，还是深紫外光刻，都会发生衍射，相当于光栅实际长度根物理长度不等光蚀刻的尺度为什么与光的波长相关而不是与光的振幅相关。1、光刻胶的作用光刻胶的作用光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由...