蚀刻

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对于补充问题：首先来说cmos工艺中出现这个光刻栅长也是对应于cmos制作中在光刻步骤中由于无论是用电子束光刻，还是深紫外光刻，都会发生衍射的问题演化出来的,光刻栅长，无论是用电子束光刻，还是深紫外光刻，都会发生衍射，相当于光栅实际长度根物理长度不等光蚀刻的尺度为什么与光的波长相关而不是与光的振幅相关。1、光刻胶的作用光刻胶的作用光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由...