光刻技术,光刻技术成为精密微加工技术1822年发明光刻机
光刻技术成为精密微加工技术1822年，法国人Nicephorenipce发明了光刻机器,高速nano光刻技术双面光刻/干扰光刻/软-1,集成电路光学光刻技术是量子隧穿,光刻技术指技术掩膜版上的图案在光照的作用下，借助光刻胶(又称光刻glue)转移到衬底上,光刻技术成为精密微加工技术是。{0}1、光刻技术的简述光刻技术指技术掩膜版上的图案在光照的作用下，借助光刻胶(又称光刻glue)转移到衬底上。主要过程如下:首先用紫外光通过掩膜照射在一层光刻胶粘膜的基板表面，使曝光区域发生光刻胶的化学反应；然后通过显影技...
更新时间：2023-03-25标签： 光刻技术光刻技术1822精密发明 全文阅读